科技补涨分支→存储、光刻机。 存储说够了，说下光刻机。之前文章提到节前会有关于光刻机的消息出来，没想到真是来了，而且是好几个。 不过这块后续最大的预期在，9月中旬，曾经爆料的中芯国际正在测试由上海初创企业宇量昇制造的浸没式DUV光刻机，测试结果什么时候出来。这个极紫外才是高端光刻机。 而这个宇量昇，是和上海微电子有关的。别忘记了。光刻机不是上海微就是新凯来。 另外，这个突破呢，得益于“多重曝光”技术。多重曝光技术虽然可以在不升级光刻机的情况下实现更高制程（如用28nm DUV光刻机实现7nm芯片）。 代价是耗材使用量、生产时间和成本的大幅上升。其中，光刻胶和掩膜版是最直接、最显著的增量耗材。 所以，市场才选择了凯美（光刻胶上游），掩膜版是苏大维格（通过“自研掩模版制造+收购维普检测设备”，已构建国产掩模版全产业链能力）。 不过市场最近选择的20cm是波长光电。长线看逻辑，短线看盘面，谁强选谁。
猜你喜欢
【7评论】【30点赞】
【3评论】【9点赞】
【22评论】【61点赞】
【4评论】【8点赞】
作者最新文章
热门分类
财经TOP
财经最新文章