应用领域和指标要求参考

用途用水指标参考标准超纯材料和超纯化学试剂石英、硅材料生产、加工、提纯电子半导体、集成电路板上用到的化工材料电阻率15 ~18.25 MΩ.CM我国电子级水质技术指标美国半导体工业用纯水指标普通化工材料的生产和加工过程所用的溶剂及清洗过程电导率≤10μs/CM饮用纯净水标准（GB17324-98）

主要工艺流程和出水指标：

※ 预处理+1级反渗透（电导率≤10μs/CM）  

※ 预处理+二级反渗透（电导率≤2μs/CM）

※ 预处理+反渗透+离子交换器（电阻率≥15MΩ.CM）

※ 预处理+1级反渗透+EDI（电阻率≥15MΩ.CM）

预处理+二级反渗透+EDI +抛光混床（电阻率≥18.25MΩ.CM）

详细工艺需根据原水设计情况进行设计

纯水设备的主要特点

▼采用进口反渗透膜，脱盐率高，使用寿命长，运行成本低廉，产水水质高而稳定；

▼在线水质监测控制，实时监测水质变化，保障水质；

▼全自动电控程序，还可选配触摸屏操作，使用方便，操作简单、方便；

▼切合当地水质的个性化设计，设想周到的堆叠式设计，占地面积小，满足需求；

▼与传统工艺相比具有运行成本低的优点（离子交换器的再生周期大幅延长），与工艺相比具有造价低，耗材易得的优点；

▼运行费用及维修成本低，全自动运行，实现无人化管理操作。