标签: 光刻机
天孚通信:产品暂不适用于光刻机,应用多领域
请问贵公司的产品光隔离器和光学微透镜，能否用在光刻机上？建议公司将此产品向光刻机领域拓展，谢谢！董秘回答(天孚通信SZ300394)： 尊敬的投资者你好，公司定位光器件整体解决方案提供商和光电先进封装制造服务商，产品广泛...
ASML再出重拳,1000台光刻机秒变“废铁”不料我们留有后手
荷兰颁布光刻机新规之后，全球芯片行业受到震荡。据路透社报道，在此次管制升级过程中，DUV设备的出口限制标准由7纳米下调至14纳米，并且管制范围进一步扩大，像计算光刻软件等处于敏感领域的配套技术也被“一刀切”地纳入管制...
中方反制见效，却让日本发现一个惊天秘密！日媒紧急呼吁：“全球70%的成熟制程订单
中方反制见效，却让日本发现一个惊天秘密！日媒紧急呼吁：“全球70%的成熟制程订单正源源不断流向中国工厂，价格低到让我们怀疑人生！”美国把EUV光刻机当“核弹”使，中国却用28纳米“板砖”打他们一个措手不及！美国把EUV光刻机当成“核弹”卡中国先进制程的脖子，本以为能按住中国半导体的发展，没想到反倒给中国指了条“接地气”的道，用28纳米这种看似普通的“板砖”硬生生砸出了一片天，这波操作让日本半导体从业者看得目瞪口呆，才后知后觉发现全球70%的成熟制程订单都悄悄流向了中国工厂。这事儿得从美国的限制说起，2018年起就层层加码，EDA软件、先进光刻机卡得死死的，高端路走不通，中国干脆转头深耕28纳米及以上的成熟制程。别小看这成熟制程，它可不是边角料，电动车、家电、工业设备全靠它撑着，就像家里的柴米油盐，看着普通却离不了。中国从2017年就拉着中芯、中微这些企业抱团，成立集成电路创新联盟，把设备验证周期从24个月压到12个月，五年时间硬生生织了张产业链大网。2025年一季度国产半导体设备率已经升到21%，年底还要奔50%去，设备能自己造，成本自然降得下来，这可不是靠补贴能堆出来的。中国的价格优势确实让日本直呼“怀疑人生”，但这真不是赔本赚吆喝。日本机构算过账，中国晶圆代工的劳动力成本比中国台湾低11%，工业电费每度才0.08到0.12美元，比海外便宜一半多。更实在的是设备成本，北方华创的长晶炉一台200万美元，比进口的便宜一半，坏了维修还不用等半年。之前6英寸碳化硅衬底，欧美卖800美元的时候，中国直接压到400美元，德国X-Fab没办法只能放弃这个市场。到2024年下半年，个别28纳米晶圆报价从2500美元左右降至1500美元附近，12英寸代工价只有台系工厂的六折，8英寸代工价再降20%-30%，这种性价比谁能拒绝？产能更是中国的底气所在。2024年中芯国际直接超过联电、格芯，成了全球第二大晶圆代工厂，全年出货超800万片，产能利用率还维持在85.6%的高位。中芯在上海、北京、深圳的工厂不停扩产，2024年12英寸月产能超过80万片，2025年还计划砸88.7亿美元在上海临港建10万片/月的生产线，专门聚焦28纳米及以上节点。2024年中国大陆在成熟节点新增产能占比全球最高，接近四成，2024到2027年12寸成熟制程产能年均要涨27%，其他地区加起来才3.6%，这差距简直是坐火箭和骑自行车的区别。国际数据公司估算，到2025年中国成熟制程芯片产能将占全球28%，SEMI更是预测2027年能攀升到39%。订单流向中国根本不是偶然，毕竟全球80%的PC、60%以上的新能源车都在中国生产，就近代工的需求明晃晃摆在这儿。中芯国际来自中国地区的销售收入占比都达到85%的历史高峰，东南亚客户和欧洲中小设计公司也纷纷转单过来，订单量的增加完全能弥补价格下滑的影响。上海微电子的28纳米光刻机良率已经到90%，成本才是ASML的三分之一，2025年就能交付10台以上，设备跟得上，产能释放自然快，现在中国在成熟制程芯片上的自给率已达70%，全球半导体设备采购中约47%来自中国企业。日本的焦虑说到底是自己踩了产业布局的大坑。他们一门心思扑在3纳米、2纳米的先进制程上，拉来台积电在熊本建工厂，砸了32亿美元补贴，月产能拉到5.5万片12吋晶圆，本以为是重振半导体的救命稻草，没想到台积电重心还在先进工艺上，AI芯片订单都排到明年了，哪有精力顾成熟制程。上世纪日美半导体战争后，日本就放弃了通用芯片代工，转向汽车电子等细分领域，看似稳妥却丢了规模效应，现在本土根本没有能和中芯、华虹抗衡的代工企业，相当于赛场上自己没人，只能借别人的选手参赛。他们忘了成熟制程才是真金白银的基本盘，一门心思做高定礼服，却丢了老百姓刚需的T恤牛仔裤，等反应过来，市场早被占了。更要命的是，日本出口的半导体制造设备约三成面向中国市场，美国的限制最后坑的还是自己。美国本想靠技术壁垒拖慢中国，没想到反而让中国企业抱团突围，就像给树苗浇开水，没把苗烫死，反倒让它在逆境里长出了更壮的根。这场产业迁徙哪里是意外，分明是中国五年深耕的必然结果，日本的焦虑不过是暴露了自己战略误判的代价，毕竟2024年中国制造业占比31.6%，未来还要涨到45%，这么大的市场摆在这儿，订单自然会跟着制造能力走。
中方反制见效，却让日本发现一个惊天秘密！日媒紧急呼吁：“全球70%的成熟制程订单
中方反制见效，却让日本发现一个惊天秘密！日媒紧急呼吁：“全球70%的成熟制程订单正源源不断流向中国工厂，价格低到让我们怀疑人生！”美国把EUV光刻机当“核弹”使，中国却用28纳米“板砖”打他们一个措手不及！2025年以来，日本财经圈的焦虑感越来越浓，《日经亚洲》的一篇紧急报道直接点破了他们的担忧：原本以为跟着美国对中国半导体设备设限能稳住优势，没想到反而让全球芯片产业的话语权悄悄转移，大量成熟制程订单正扎堆涌向中国工厂。这份焦虑不是空穴来风。一位德国芯片设备商的亚洲销售总监透露的细节很直观，两年前全球领先企业的6英寸碳化硅晶圆还卖1500美元一片，现在中国供应商的报价能压到500美元以下。这样的价格优势，让不少海外企业在下单时毫不犹豫地转向了中国。谁都记得，美国从2019年就开始对中国半导体产业动手，后来干脆拉上日本、荷兰组团限制设备出口。在他们眼里，EUV光刻机就是制约中国的“核弹”，从14纳米以下先进制程设备到深紫外光刻机的关键参数，层层设卡，就是想卡住中国芯片产业的脖子。日本当时也跟着出台了清单，把23类半导体制造设备都纳入许可管理，从清洗机到测试仪，几乎覆盖了45纳米以上制程的全链条，7月实施后，不少日本企业不得不中断和中国客户的直接合作。荷兰的ASML也受政策影响，高端浸没式光刻机的对华交付大幅延迟，许可流程一卡就是好几个月。他们没料到，中国企业没在先进制程上死磕，反而转头深耕起了28纳米这类成熟制程。要知道，成熟制程在汽车电子、5G设备、物联网等领域需求量极大，市场空间一点不比先进制程小。中芯国际早早就定了“以量取胜”的路子，从2020年就开始加码扩产，北京厂加装国产蚀刻机，上海厂改造生产线提升产能。产能上来的同时，供应链的韧性也在增强。中国不仅扩大了成熟芯片的生产规模，还悄悄搭建起了完整的本土设备和材料生态系统，不再过度依赖海外供应商。这一点让台湾地区的复合芯片设备商高管都感慨，现在碳化硅领域的价格战里，大陆企业完全能靠本土产业链站稳脚跟。数据最有说服力。国际数据公司预估，到2025年中国成熟芯片产能将占到全球市场的28%左右，而国际半导体产业协会更预测，到2027年这个数字可能会涨到39%。2024年的海关数据也显示，中国本土生产芯片的份额已经从疫情前的15%左右提升到20%以上，进口芯片的金额增速明显放缓，贸易逆差正在缩小。更让日美企业头疼的是，中国成熟芯片的性价比优势正在挤压他们的市场空间。路透社就曾指出，国产28纳米芯片比进口产品便宜20%，再加上供应链稳定、交付及时，不少企业都开始优先选择本土供应商。就连之前在美国砸重金建厂的台积电，也转头回大陆扩产28纳米生产线，可此时中芯国际的产能已经稳稳占据了优势。美国原本想靠设备限制维持技术霸权，却意外倒逼中国完成了成熟制程产业链的重构。国家集成电路产业投资基金三期的启动，让上海微电子等本土企业有更多资金投入设备研发，一步步补齐短板。现在看来，那些被视为“落后”的成熟制程技术，反而成了中国芯片产业突围的关键。全球芯片市场的格局正在被重新改写，70%成熟制程订单流向中国的背后，是产业选择的必然结果。毕竟对于大多数行业来说，芯片不一定要追求最先进，稳定、便宜、供应有保障才是核心需求。这场芯片领域的博弈还在继续，中国用28纳米“板砖”走出的突围之路，让我们看到了产业链自主的力量。你觉得未来中国在成熟制程领域还能创造哪些突破？欢迎在评论区聊聊你的看法。
中方反制见效，却让日本发现一个惊天秘密！日媒紧急呼吁：“全球70%的成熟制程订单
中方反制见效，却让日本发现一个惊天秘密！日媒紧急呼吁：“全球70%的成熟制程订单正源源不断流向中国工厂，价格低到让我们怀疑人生！”美国把EUV光刻机当“核弹”使，中国却用28纳米“板砖”打他们一个措手不及！美国和他的盟友们，挥舞着名为“EUV光刻机”的核武器，企图一剑封喉，锁死中国所有通往高端芯片的未来，但中国，却走出了一步让全世界目瞪口呆的妙棋——你打你的，我打我的。美国把EUV光刻机当成了制约芯片产业的“核弹”，牢牢攥着技术封锁的闸门，可他们没算到，中国转头就在28纳米这种成熟制程上挖出了新出路。ASML全球执行副总裁沈波都公开说，现在AI驱动的芯片需求里，成熟制程才是真正的主力军，占比已经超过60%，像新能源汽车、工业互联网这些领域，最缺的就是28纳米、40纳米这类芯片。中国的晶圆代工厂刚好踩准了这个节奏，2025年第二季度数据显示，华虹半导体的产能利用率都突破100%，达到108.3%的超负荷状态，中芯国际也维持在92.5%的高位，生产线根本停不下来。更让外界意外的是中国在28纳米技术上的突破。复旦大学的团队压根没纠结EUV，转而用二维材料二硫化钼做文章，居然在28纳米生产线上做出了媲美3纳米性能的芯片，还登上了《Nature》主刊。这种技术不用依赖1.5亿美元一台的EUV光刻机，靠成熟的DUV设备就行，生产的“无极”芯片系列2025年良率预计能到99.77%，还集成了5900个晶体管，是之前技术的51倍。成本降下来了，性能还顶得上，订单自然往中国流，毕竟没人会跟性价比过不去。日本这边看得着急上火，他们自己的半导体产业正陷在两难里。政府砸了4760亿日元补贴台积电在熊本县建厂，想靠外资解决成熟制程供给，又投1.8万亿日元给本土“国家队”Rapidus公司搞2纳米研发，盼着重回半导体强国行列。可理想很丰满，现实却骨感：Rapidus连试制都刚成，量产要等到2027年，还面临技术、人才、资金一堆难关，光是相关从业人员就从1999年的15万人锐减到2023年的6万，台积电一来更是引发人才争夺战。反观中国，不仅成熟制程产能充足，还靠材料创新打开了新空间，连ASML都不得不重视，在中国区已经累计交付超1400台光刻机，2023年第三季度中国区销售额占比高达46%。全球市场的需求结构早就变了，新能源汽车单车芯片用量能到1000颗，直接拉动功率半导体需求增长200%，这些都得靠成熟制程支撑。中国工厂一边扩产能，一边搞技术升级，自然接住了源源不断的订单。日本媒体急着呼吁警惕，本质上是看清了差距——当美国还在靠EUV筑墙时，中国已经用28纳米这块“板砖”，在成熟制程市场砸出了一片天。未来的路还长，先进制程咱们还得继续攻关，但成熟制程的突破已经让咱们站稳了脚跟。接下来只要继续把人才培养好，把产业链的每个环节都做扎实，再慢慢向更高端的技术迈进。咱们在全球芯片领域的话语权肯定会越来越大，那些曾经想靠技术卡脖子的国家，现在应该明白，闷头搞研发、把基础打牢，才是最靠谱的！信源：今日海峡
光刻机暗战中国曾握有一张王牌却主动弃牌今天当荷兰ASML的EUV被
光刻机暗战中国曾握有一张王牌却主动弃牌今天当荷兰ASML的EUV被奉为"工业皇冠"时，很少有人记得，上世纪七十年代末，中国光刻机的综合指标只落后美国半代，领先韩国整整一代。历史没有抹去痕迹，只是被选择性地遗忘。把时间的指针拨回四十多年前，那些藏在山沟里的厂房、油印本手册、花岗岩气浮平台，曾拼成一张足以改变全球半导体格局的拼图，却在1982年冬天被一句"进口更便宜"撕得粉碎。残骸不会说话，但它始终在等待有人把这段曲线还原——原来我们并非输在起跑，而是主动在冲刺阶段退出赛道。第一章被低估的"同步起跑"1965年，中科院半导体所拿出第一台65型接触式曝光机，比韩国早10年，比台湾地区早12年，与日本尼康几乎前后脚。1972年，武汉无线电元件三厂把工艺写成《光刻掩模版的制造》，油印3000册，成为各地小三线厂的"红宝书"。没有EUV、没有DUV，只有汞灯i-line，中国人用国产光刻胶、国产镜头在硅片上"拍"出第一块PMOS电路，并把它装进东方红二号卫星的遥测系统——那颗卫星至今仍在太空沉默运行，像一枚被遗忘的勋章。第二章山沟里的"隐形冠军"陕西商州，877厂（卫光电工厂）1975年量产的陶瓷封装TTL门阵列，在"尖兵一号"返回式卫星上连续无故障工作39天。同一条山沟，4503厂1977年推出GK-3型分步重复光刻机，分辨率2微米，镜头来自长春光机所自研"天塞"结构，镜片毛坯取自四川208厂高纯石英。总工回忆："当时美国Cobilt还在10微米挣扎，我们离它也就一个身位。"这些藏在秦岭深处的厂房，用最原始的手摇计算机和算盘，把中国的半导体重心硬生生提前了十年。第三章1982，拔掉的不仅是电源1982年12月，国家机械委收到《关于停止集成电路专用设备研制工作的请示》，理由简洁而冰冷："进口更便宜，直接买成品线。"随后，4503厂改产台式电风扇，877厂去做录音机电位器，清华大学第四代分步投影机项目账面27万元科研经费被收回，实验室改成计算机房。那天下午，研究人员把花三年凿出的花岗岩气浮平台以20元/吨卖给校办工厂，买主问这石头干嘛用，对方答："曾经想拿它刻出国运。"一句冷幽默，道尽一个产业的猝死。第四章组合拳如何打断脊梁1.市场端：海外64KDRAM倾销价2美元，国产成本20美元；2.资金端：1983年起半导体设备专项预算归零；3.人才端：1984年深圳电子厂月薪200元，是研究所4倍，光刻室8名工程师走了6个；4.认知端：舆论盛行"造不如买"，《经济日报》头版直言"自己造芯片是浪费外汇"。四记重拳同时落下，一条刚刚爬上2微米的产业链被连根拔起，而同一时期，荷兰ASML正靠PAS2500/40拿到台积电大单，开启狂飙。第五章错过窗口就是两代真空半导体设备每五年换一代，1982—1986年正是全球从3微米向1.5微米跃迁的关键期。中国的GK-4型原型机已把激光干涉定位系统装进样机，目标1.5微米，只差一台合格KrF激光器。"再给我们三年，至少能赶上ASML1988年的水平。"老总工这句话，今天听来像科幻，却是当年实验室里触手可及的明天。结果20年空白后，2002年"02专项"重启，人才、数据、Know-how悉数断档，中国光刻机不得不用举国体制补两代人的课。第六章残骸给出的三条启示技术可以突击，产业无法跳级。光刻机是10万种零件、2000家供应商的"森林生态"，当年我们能做2微米样机，却保不住胶、阀、泵、镜头、激光器、伺服电机的小生态，树砍光了，独木必死。战略窗口期错过就是一代。1982年停下，到今日再追，已是用举国之力补"两代课"。路线之争最终是价值排序。"造不如买"省下的几亿美元，与如今每年几千亿美元芯片进口相比，九牛一毛，失去的是整个信息时代的门票。第七章让残骸说话而不是流泪西安东郊的废旧仓库里，GK-2型被清洗干净，摆进陕西半导体博物馆入口，解说词只有一句："它提醒后来者，技术自主这条路，一旦拐弯，可能就是一生。"40年前我们曾与世界同步，40年后我们仍在追赶。历史没有如果，只有结果；残骸不会说话，却一直在问：下一次窗口打开，我们还会不会亲手把它关上？答案，写在今天的实验室、资金盘、产业链和每个人的价值排序里。中国光刻技术光刻芯片中企光刻机光刻技术光刻机公司极紫外光刻技术深紫外光刻机国光刻机电子束光刻机极紫外光刻光刻技术革命华为光刻紫外光刻机DUV光刻2nm光刻机
全球90%都是日本生产，一旦断供中国如何应对？为何别国无法生产 麻烦看官们右
全球90%都是日本生产，一旦断供中国如何应对？为何别国无法生产麻烦看官们右上角点击一下“关注”，既方便您进行讨论和分享，又能给您带来不一样的参与感，感谢您的支持！你可能从没见过光刻胶长啥样，它既不像光刻机那样高冷巨大，也没有芯片那样精致闪亮，就是一瓶黏糊糊的化学液体，但如果哪一天，日本忽然说一句“不卖了”，中国不少晶圆厂的生产计划，可能像被按了急刹车一样，瞬间停摆，听着夸张，可这玩意儿真的不是“卡脖子”，而是“命门”。行业里人人都知道，光刻机固然难，但再贵、再复杂，它至少摆在那儿你能看见；光刻胶却像芯片里的暗影杀手，你不用，它躺着，你一换，它翻脸直接把你的产线良率从天上摔到地上。尤其是用在28nm以下工艺的高端光刻胶，技术难度大、参数刁钻，稍微差一点点，图形就糊成一片，日本几家企业，偏偏就在这个极难啃的领域，几十年如一日地深耕，把全球九成以上份额都握在手里。别国不是不想做，是压根做不出能用的。光刻胶的难，不是“怎么做”，而是“做了别人也不敢用”，一款新胶想进入产线，需要在光刻机上跑无数次测试，曝光剂量、旋涂厚度、烘烤温度、显影时间，一项项调，一项项试，运气不好，一次实验就是几片晶圆报废，成本像流水一样往外淌。有人说光刻胶是“材料界的洁癖狂”，一点点杂质，它都能用显微镜的精准来记仇。也正因为这样，早已形成惯性的光刻机厂商、晶圆厂，宁愿继续用旧方案，也不敢轻易换新胶。这就是日本的真正底气，它们并不是突然跳出来说“我最强”，而是在上世纪七八十年代就悄悄布局，那时候大家都忙着做芯片本身，而日本却反方向地扎进材料领域，一头钻进化学瓶瓶罐罐里不出来。跟光刻机厂商捆绑开发，设备每升级一代，材料也同步升级，客户买的是一整套体系，你想换供应商？没那么简单，这相当于让一座大厦重新打地基，代价巨大不说，风险更吓死人，靠着这种“体系锁定”，日本把这个看似不起眼的小市场，熬成了自己的护城河。中国当然不会甘心靠进口过日子，过去几年国产光刻胶一路从零摸索到能跑成熟制程。KrF光刻胶已能量产，ArF在28nm工艺上完成了验证，不过距离真正大规模商用，还有一段路要走，而EUV光刻胶这是芯片制造顶尖赛道里的皇冠，如今还基本依赖海外，一旦某个供应国“收紧阀门”，产线撑不了太久这是现实。但中国也不是没办法。有些动作很低调，却已经实施很久，国家层面的光刻胶储备，能覆盖三到六个月；重点项目、关键行业被优先保障供应，企业也没闲着，与韩国、美国的材料商建立第二供应链，让关键材料至少有“备胎”。更聪明的是，产业链内部开始重新分配“紧缺资源”：高端光刻胶优先给基础制程，让28nm等重要节点保持稳定；至于先进制程，则通过chiplet等架构创新，减少对最尖端光刻胶的依赖，不是最完美的解法，但能撑住阵脚。当然要想从根上解决问题，还得靠真正的技术突围。几乎所有人都意识到，光刻胶的核心不是一瓶配方，而是一个完整的上下游生态：树脂、单体、光酸、试剂、设备匹配、产线验证，每一样都离不开彼此。为此中国开始从上游原料到下游应用全面布局，从单体到树脂，从实验室到晶圆厂，整个链条都被发动起来，一些企业已经在原料层面突破了海外垄断；一些光刻胶产品被送进国内大厂试机；原先需要两年验证的周期，被压缩到一年甚至更短。科研机构、企业、设备商、晶圆厂开始坐在同一张桌子上，不再“各自为战”，而是整体协同。这一套打法，并不模仿谁，而是结合中国的优势重新走一遍路，韩国2019年被断供时，能在三年内实现关键材料自给率提升，是因为举国体系为单一目标全力奔跑；中国的优势在于更大的市场、更完整的产业链、更强的研发资源，只要各环节协同到位，速度也绝不会慢。更关键的是，技术范式正在改变，AI参与材料研发后，新配方筛选效率提升了一倍，过去半年才能推进的进度，现在一个月就能有结果，芯片结构也不再一味追求单一制程，更强调系统设计、架构创新，光刻胶也有新路线，比如金属氧化物体系，让后来者有了“换轨超车”的窗口。光刻胶之争，看似是一瓶化学品的较量，其实真正赌的是谁能先构建出新一代的产业体系，日本的优势来自五十年的深耕；中国的机会来自技术范式变动、供应链重塑和庞大的市场容量，一旦国产光刻胶在“能用”之外做到“好用”，芯片产业的话语权就会重新洗牌。到那时候，决定全球产线习惯的，不再是“谁最早发明”，而是“谁的体系更好、谁的市场更大”，一滴光刻胶背后，是一场没有硝烟的权力赛跑，看似门被别人锁住了，但中国正在做的，不是抢钥匙，而是在造一扇全新的门。对此，大家有什么看法呢？
全球顶尖科技中，我们占了几样呢？目前，我国在量子计算、人工智能、登月技术、机
全球顶尖科技中，我们占了几样呢？目前，我国在量子计算、人工智能、登月技术、机器人等领域的水平，在全世界范围内属于非常出色的领先状态，哪怕是科技领域非常难攻克的光刻机技术，我们在近几年也有了很大的进步，是全球少数几个能独立制造光刻机的国家之一，目前正在努力的进行突破和技术追赶；我国在各领域一直强调自主研发，因为只有自主研发，才能不被其他国家用核心技术“卡脖子”，才能在创新上持续发展，才能做到科技上自立自强；当然，自主研发的过程并不会太顺利，每一步都充满着挑战，是无数的科技工作者们艰苦创新、埋头苦干、历经无数次的实验与改进，才有了如今我们科技领域的迎头赶超、百花齐放。
首台350nm步进式光刻机发运:中国的光刻机厂商,又多了一家
目前全球知名的光刻机厂商其实就4家，一家是荷兰的ASML，一家是中国大陆的上海微电子，还有两家是日本的尼康、佳能。当然，大哥是ASML，覆盖了高、中、低端，特别是EUV光刻机，全球只有他一家能够生产。而尼康则达到了中端，...
光刻机巨头开始慌了，中国造不成光刻机，但是要造一个光刻工厂！长期以来，全球最
光刻机巨头开始慌了，中国造不成光刻机，但是要造一个光刻工厂！长期以来，全球最先进的光刻机几乎都来自荷兰的ASML，这家企业靠着EUV技术坐稳了半导体设备的头把交椅。麻烦看官老爷们右上角点击一下“关注”，既方便您进行讨论和分享，又能给您带来更多优质的内容，感谢您的支持！长期以来，全球最先进的光刻机市场几乎就是荷兰ASML一家的舞台。凭借垄断级的EUV技术，这家公司稳稳坐在半导体设备产业链的最顶端，像是一个掌控全球高端芯片产能的“隐形阀门”，谁要造先进芯片，谁就离不开它。这种情况已经持续了十多年，全球也一直默认：能否造出顶尖光刻机，决定了一个国家在科技上能否独立。中国当然也想突破这一关，但现实摆在眼前——光刻机不仅难，难到连ASML自己能成功都可以称为半个奇迹。但事情最近突然出现了一个巨大的转折点：光刻机巨头开始慌了。不是中国造出了光刻机，而是中国选择换了一条思路——与其死磕一台光刻机，不如造一整座光刻机工厂，把国内所有能覆盖的技术链条全都拼起来，最终用体系化、工业化的力量对冲ASML的技术封锁。这意味着，游戏规则正在被彻底改写。传统语境里，光刻机就是半导体设备里的“珠穆朗玛峰”。一台机器背后牵涉上百万零件、数千家供应商、纳米级精密机械、极端紫外光源、顶尖镜头材料等等。每一个部件都足以难倒一个国家，更别说把所有东西整合在一台设备里。当美国联手荷兰、日本建立技术封锁后，外界普遍认为：中国至少十年内都无法摸到EUV的门槛。按常规路径确实如此，因为这是一个被西方卡了几十年的产业链，不是单靠一个企业就能顶上来的。然而，中国工业体系的底层逻辑与西方完全不同。如果把光刻机看作一个大工程项目，而不是一台单独的设备，那么中国反而具备别人不具备的优势：全国齐上阵的产业链配合能力、基于国家战略的长期投入、制造业大规模协同的能力、以及从科研到量产的闭环。这些是ASML无法模仿的。于是，中国选择了最中国式的解法：不是先造机器，而是先造一整个能生产光刻机的工业母体。无论是光刻机上的镜头、光源、平台、振动控制、精密加工能力、超级洁净车间，还是背后的材料学、设备学、工艺学，全都通过“工厂体系”来整合。工业体系的厚度直接替代了某些关键技术的一时缺失。这一招对ASML的冲击非常真实而且巨大。因为ASML之所以能成为全球独一份，本质上不是它在每个环节都世界第一，而是它掌握了整合能力——它能把德国蔡司、日本光学材料、美国光源技术、荷兰本土机械系统全部组合成一台机器。中国现在在复制的不是光刻机本身，而是ASML的系统能力。更可怕的是，中国有全球唯一能与其体量匹敌甚至远超的工业体系。这意味着什么？意味着只要中国的光刻工厂能够把国产供应链整合到一个足够成熟的程度，即使一开始造不出EUV，未来也可能做到被迫“自我循环”，最终形成自己的高端设备路线。5年前说这句话可能有人会笑，但当中国在高铁、核电、航天、船舶这些“世界级复杂工业”上都能实现从0到1，再做到世界第一，半导体设备并不是完全不可能。这也是为什么ASML最近的态度发生微妙变化。从一开始的高高在上，到后来的频繁施压荷兰政府不要禁售，再到如今的警告“全面封锁中国将加速中国独立”，这家巨头第一次感到了危机感。因为它明白，全球产业链最不想看到的，就是中国把所有技术全部自己做一遍。一旦这个局面发生，ASML将不再是无可替代的唯一，它会从“垄断者”变成“竞争者”。事实上，中国已经在这条道路上看到阶段性成果。国产深紫外光刻机已经进入量产，28nm、90nm工艺的设备已经投入使用。虽然与ASML顶尖EUV还有差距，但最关键的一步——国内设备替代正在从低端往上推进。更重要的是，相关的镜头、光源、曝光平台等关键部件也在被国产供应链逐步填补。这不是几年内能见效的东西，但它是产业链的“地基”，一旦筑牢，未来突破将是连锁反应。中国现在选择造一座光刻工厂，而不是单独造一台光刻机，这是一个战略级的选择。它的作用不仅仅是在短期内填补技术缺口，更是让中国在未来的半导体竞赛中具备真正的独立性。只要体系足够完备、供应链足够自洽，光刻机的突破就会成为“水到渠成”而不是“孤勇者”。这是一条更难但更稳的路，也是一个大国面对封锁时最有效的反击方式。
芯上微装首台350nm步进光刻机发运
2025年11月25日，上海芯上微装科技股份有限公司（以下简称“AMIES”或“芯上微装”）宣布，公司自主研发的首台350nm步进光刻机（AST6200）正式完成出厂调试与验收，启程发往客户现场。芯上微装表示，这标志着我国在高端半导体...
技术封锁再升级：美国拧紧光刻机阀门，中国早已破局美国方面突然宣布了，对含有美国
技术封锁再升级：美国拧紧光刻机阀门，中国早已破局美国方面突然宣布了，对含有美国技术的光刻机实施更严的出口管控，相关机型对中国的交付继续收紧。这事已经不只是单台设备的卡点，更像是把设备、材料、市场三条线一起往紧里拧。光刻机在前台，零部件和原材料在后台，哪个环节松不了口，整条线就走不快。先看设备型号这块。EUV早就不对中国出货，2023年起连部分高端DUV也要许可证。2024年阿斯麦提到，个别对华出货许可被撤回。美国所谓的“含美技术”管控，说白了就是攥着供应链的命门搞霸权。很多人以为光刻机是荷兰阿斯麦一家的功劳，其实这台“工业皇冠上的明珠”里，美国技术占了关键一环——EUV光刻机的核心光源系统，就是美国Cymer公司研发的，现在这家企业已经被阿斯麦全资收购，等于美国把高端光刻机的“心脏”攥在了手里。2024年荷兰政府吊销NXT:2050i和NXT:2100i机型的对华发货许可，背后正是美国的胁迫，这种把技术当政治工具的操作，严重违背了国际贸易规则。更狠的是，美国还搞起了“连环堵”。不光管整机，连零部件、原材料甚至维修服务都卡得死死的。光刻机10万多个零件，小到一个精密轴承，大到光学镜片，只要沾了美国技术的边，就别想顺利进入中国。2024年有消息说，部分已售给中国企业的DUV光刻机，连常规的维护保养都被限制，美国就是想通过这种方式，让中国的芯片产线“慢慢停摆”。可他们忘了，半导体产业是高度全球化的，阿斯麦2024年财报显示，中国大陆市场贡献了36.1%的营收，是其最大单一市场，这么卡脖子，最先疼的其实是自己。美国的算盘打得精，想通过封锁光刻机遏制中国半导体产业升级。毕竟芯片制造的光刻环节，直接决定了芯片的精度和性能，EUV能搞定7nm以下先进制程，高端DUV也能覆盖28nm关键节点，这些都是人工智能、高端制造的核心支撑。可他们低估了中国“越卡越强”的韧性。上海微电子早就憋着一股劲，2025年已经正式交付首批28nm浸没式DUV光刻机，晶圆处理速度每小时能到150片，良率经过调整能冲到85%，完全能满足中高端芯片的生产需求。不光整机，产业链的“毛细血管”也在快速打通。以前光刻胶、特种气体这些原材料大多依赖进口，现在国产替代已经迎来爆发。2025年前三季度，晶瑞电材的光刻胶业务净利暴增192倍，凯美特气的光刻气通过了阿斯麦认证，订单直接排到了2027年。茂莱光学的28nmDUV物镜单台能卖5000万，国产化率一步步提高，以前被卡脖子的环节，现在都成了新的增长点。这些突破不是天上掉下来的，是无数科研人员熬出来的，也是美国的封锁逼出来的。美国总喊着“自由市场”，却干着最霸道的事。2024年底他们又搞了新的出口管制条例，新增多个管控编号，连原子层沉积设备、高纵横比蚀刻设备都纳入限制，还把130多家中国芯片企业列入实体清单。这种“三板斧”式的封锁，看似严密，实则暴露了内心的焦虑。他们怕中国半导体产业崛起，怕自己的科技霸权旁落，可历史早就证明，封锁从来挡不住进步，只会加速自主创新的步伐。中方早就亮明了态度，外交部和商务部多次发声，反对美国泛化国家安全概念，胁迫其他国家搞对华科技封锁。阿斯麦自己也清楚，中国市场的重要性无可替代，2025年还计划在北京新建光刻机维修中心，就是不想彻底失去这块蛋糕。美国想让中国芯片产业“停步”，可现在中国半导体自给率已经从15%涨到30%，国产设备和材料形成了“技术-订单-产能”的正循环，这股势头谁也挡不住。科技竞争的核心是创新，不是封锁。美国把光刻机当成打压中国的武器，却忘了创新的土壤从来不是垄断，而是开放与合作。中国从来没有想过闭门造车，只是在外部压力下，不得不加快自主可控的步伐。各位读者你们怎么看？欢迎在评论区讨论。
“光刻机没有一个国家可以做得到，美国都造不出，中国根本做不到！”“中国永远都造不
“光刻机没有一个国家可以做得到，美国都造不出，中国根本做不到！”“中国永远都造不出光刻机？”去年，中国物理学教授朱士尧在一次采访中直言：“美国都造不出，中国永远也造不出来！”甚至认为世界上没有一个国家能造出光刻机。光刻机简单说就是造芯片的“超级刻刀”，要在指甲盖大小的硅片上刻出几百万个细微电路，这些电路的宽度比头发丝的千分之一还要细。这种极致的精度要求，使得光刻机成为人类工业史上最复杂的精密设备之一，它的研发制造早已超越单一国家的工业能力范畴，变成了全球顶尖技术的集体结晶，美国作为科技强国尚且无法独立完成，中国面临的挑战更是难以想象。目前全球唯一能批量生产最先进EUV光刻机的荷兰ASML公司，其产品根本不是荷兰一国的成果，而是集合了近800家全球供应商的核心技术。这些供应商遍布欧美日等发达国家，德国蔡司提供的光学镜头要达到纳米级精度，每一片镜片的加工误差不能超过原子级别，这种工艺积累需要上百年的技术沉淀；美国Cymer公司研发的极紫外光源，要在真空环境中产生波长仅13.5纳米的激光，其功率控制难度堪比在狂风中点燃一根火柴并保持稳定燃烧；日本的精密轴承和陶瓷部件，能确保光刻机内部机械结构在高速运转中依然保持微米级定位精度，哪怕是温度变化0.1℃都可能影响整机性能。美国虽然在半导体设计和设备领域占据优势，但缺少这样完整的顶尖供应链支撑，同样无法独立造出EUV光刻机，这也印证了“没有一个国家能单独完成”的客观现实，却不代表中国只能望而却步。朱士尧教授的判断忽略了一个关键逻辑：全球协作的技术结晶并非不可拆解，更不是无法复刻。中国面对的从来不是“从零创造所有技术”，而是在现有技术体系中突破关键环节，构建自主可控的产业链。过去几年，美国联合荷兰对中国实施光刻机出口管制，禁止ASML向中国出售EUV设备，这种封锁反而倒逼中国产业链加速整合。在光学系统领域，茂莱光学的DUV物镜精度已达到国际同类水平，成功进入上海微电子供应链，而奥普光电主导的EUV物镜研发，正在逐步缩小与德国蔡司的差距；光源方面，福晶科技的深紫外非线性晶体成为核心材料支撑，其研发的EUV光源用晶体已进入验证阶段，打破了国外在该领域的垄断。这些突破看似零散，却正在编织一张完整的国产供应链网络。光刻机的精密机械控制环节，电科数字的纳米级位移控制系统已经实现量产，能精准控制光刻镜头的运动轨迹；温控系统方面，同飞股份的技术能将温度波动控制在±0.01℃以内，确保光刻过程中电路线宽的稳定性；甚至在被视为“卡脖子”的光刻胶领域，南大光电的ArF光刻胶已经通过中芯国际验证，配套28nm制程实现规模化应用，结束了国外企业的独家供应。这些进展不是孤立的技术突破，而是形成了“部件突破—整机集成—工艺验证”的正向循环，恰是中国工业体系最擅长的攻坚模式。上海微电子作为国产光刻机整机的核心企业，已经实现90nm光刻机的量产，并且正在冲刺28nm工艺的关键节点，其研发的设备已经获得中芯国际的批量订单，开始进入商业化应用阶段。这意味着中国不仅能造出光刻机，还能形成“研发—生产—应用”的闭环，这种产业生态的构建远比单一设备的研发更具战略意义。要知道，ASML从研发到量产EUV光刻机用了近20年时间，而中国在外部封锁的情况下，用更短的时间走完了从基础研发到产业落地的关键路程，这种速度背后是中国超大规模市场的支撑和集中力量办大事的制度优势。美国造不出光刻机，根源在于其产业链“去工业化”导致的部分环节空心化，而中国正在补全工业体系的每一块短板。从超高纯气体传输系统到纳米级检测模组，从精密结构件到光刻掩膜技术，国内20余家核心企业已经覆盖了光刻机研发制造的全链条，这种系统性的产业布局正是突破技术封锁的关键。朱士尧教授的“永远造不出来”，本质上是忽视了中国在技术攻坚中的韧性和产业升级的规律。历史已经多次证明，从两弹一星到高铁、5G，中国从来没有在技术封锁面前低头，反而总能在压力下实现跨越式发展。光刻机的研发之路注定漫长且艰难，EUV光刻机的完全国产化可能还需要时间，但这并不意味着“永远无法实现”。全球科技协作的本质是技术的流动与融合，而中国正在用自主研发打破这种流动的壁垒，构建起平行的技术体系。当上海微电子的整机技术不断迭代，当国产核心部件的精度持续提升，当中芯国际的工艺验证不断推进，所谓的“技术天花板”正在被逐步突破。美国都造不出的说法，本身就说明光刻机的研发是全球协作的结果，而中国正在成为这个协作体系中不可或缺的新力量，甚至在部分领域实现了超越。所谓“中国永远造不出光刻机”的论断，既低估了光刻机作为全球技术结晶的可拆解性，也忽视了中国产业升级的坚定步伐和制度优势。技术封锁可以延缓进程，却无法阻挡一个国家追求科技自立的决心。
中、美、欧、日等纷纷行动，ASML公开表态，外媒：唯独中国不可以全球半导体的
中、美、欧、日等纷纷行动，ASML公开表态，外媒：唯独中国不可以全球半导体的暗战，这下越来越明朗了。美国、欧洲、日本齐刷刷地上阵，各种政策补贴、技术封锁轮番出招，说白了就是要把本土芯片产业养得又壮又硬气。可只要中国也想用点“家法”，西方媒体立马开骂，帽子一顶，说中国“破坏市场”。这场你来我往的较劲，最倒霉的还是那些夹在中间的公司。ASML，这家荷兰光刻机巨头，最近在财报会上摊了个明白：他们必须老老实实遵守美国和荷兰的规定，根本没得选。数据不会说谎，ASML对中国的营收占比，已经从去年的三成多掉到今年的两成。看着各国你争我抢，难怪外媒揪着中国不放，气氛一下就绷紧了。美国这几年在半导体这块，真是下了狠手。2022年开始，出口管制连升好几级，尤其是去年底，对中国的晶圆厂卡得死死的。什么“外国直接产品规则”，也就是只要沾点美国技术的都得听美国的，这套玩法把全球供应链搅得七零八落。别忘了，《芯片与科学法案》直接塞给自家企业五百多亿美元，这不是明摆着补贴么？欧洲也不甘示弱，在《欧洲芯片法案》框架下不仅砸下四百多亿欧元扶持本土芯片产业，还于2025年发起“欧盟芯片设计平台"项目，构建云端设计环境支持初创企业创新。和日本还拉了条供应链预警线，说白了就是抱团取暖，对中国步步紧逼。日本自己也没闲着，出口清单一修再修，关键设备和材料都要盯得死死的，氟化氢这种核心材料还专门加强了审查。西方嘴上说是为了“供应链安全”，实际上就是一套技术垄断的路数，联盟越来越排他，哪还是什么自由市场。在这么复杂的局里，ASML成了活生生的“夹心饼干”。高端EUV光刻机早早对中国说了“不行”，2025年10月20日荷兰正式生效新法规后，连14纳米及以上的中端DUV光刻机都被纳入许可证管理，实行严格审批，荷兰政府和美国说啥，他们就只能照做。ASML的CEO富凯说得也挺有无奈，企业不想掺和地缘冲突，但规则摆在那，谁敢顶风作案？中国市场这两年明显冷了，营收占比肉眼可见地缩水，ASML只好把高端产品重点投向欧美客户。可这买卖不是说转就转，单靠欧美市场根本填不满中国留下的空缺。ASML在中国还特意建了维修中心，雇了上千人保持服务网络，但最赚钱的高端设备卖不出去，日子确实没以前那么滋润。这场全球化的产业链，一旦政治干预多了，谁都别想安稳过日子。说到这里，大家不免想问，既然美欧日都能光明正大地补贴和保护自家产业，为什么中国只要一动手资源管控，舆论风向立马风云突变？2025年中国在对镓、锗、锑和中重稀土实施出口管制的基础上，为遏制走私规避管制行为，还开展了打击战略矿产走私出口专项行动，相关管制措施带着域外适用条款，这下西方就炸了锅。要知道，一台EUV光刻机得用掉十几公斤稀土，ASML自己都说库存最多支撑几个月。西方媒体说中国“资源武器化”，可看看他们自己，欧盟在2024年《关键原材料法案》生效后，2025年又推进“RESourceEU”计划并筹建关键矿产中心，核心目标就是“减少对中国依赖”。这双标玩的，真是信手拈来。只要是自己搞的，就是“合规”；换成中国，就是“不公平”。全世界都明白，这背后其实是规则话语权的较量。其实，这场半导体的角力，早就不是单纯的技术比拼了。背后比的是国家的综合实力、政策的灵活性，还有谁的产业链更抗压。ASML的现状就是一面镜子，全球产业链说脱钩就能脱钩？那不过是想当然。要真把中国市场全割掉，无论是技术创新还是经济利益，谁都得掂量掂量。很多权威媒体也说过，科技创新从来不是封闭环境下能玩出来的，脱钩只会让大家都慢下来。中国这几年一边积累技术，一边守好自家资源，虽然压力不小，但也在不断寻求突破。谁都看得出来，产业格局终归要变，谁能笑到最后，还真不一定。风云变幻中，每个国家都有自己的“小九九”。但谁都明白，世界这盘棋，离了中国，谁也没法下得顺心。
让中国光刻机“变成废铁”，日本对华下狠手，外媒：比美国人还绝。2023年3月
让中国光刻机“变成废铁”，日本对华下狠手，外媒：比美国人还绝。2023年3月，日本经济产业省公布将23种半导体制造设备列入出口管制名单，从7月起生效，这些设备包括清洗、沉积、光刻和成膜类型。西村康稔作为大臣在记者会上说明，这适用于所有国家，但实际重点影响中国市场。不同于美国直接禁止高端极紫外光刻机出口，日本用逐件审批方式，即使小零件如螺丝或光刻胶，也要提交申请等批准。尼康和东京威力科创等企业调整对华供应，针对中国现有生产线，逐步限制维修零件、技术援助和耗材。外媒报道中提到，日本这种管制比美国更彻底，美国重点阻挡中国未来技术，日本则破坏当下产能。一家光刻胶企业如JSR优先供货韩国，却以原材料短缺拒绝中国订单。中国工厂产能受影响，光刻胶不稳导致芯片缺陷增加，停机时间延长。光学部件更换依赖日本垄断，全球少数企业生产此类部件。维修中断使故障扩大，远程支持停止后修复难度加大。耗材市场日本占70%以上份额，这种控制让管制直接打击产业链。日本管制覆盖DUV设备及耗材，不针对未问世技术，而是瞄准已投产生产线，通过切断备件和服务，让设备逐渐无法运转。相比美国禁止EUV和高端软件，阻止7纳米以下制程，日本方式让现有产能带病运行，设备停机率上升，良率下降。某光刻胶企业告知中国客户订单无法保障，却向韩国足额供货，这种变相封锁明显。全球科技博弈中，美国是切断未来，日本是破坏根基，两者策略不同。2023年下半年，中国企业面对供应中断，加速备胎方案，产能利用率降到70%以下，成本上升。上海微电子推进28纳米浸没式深紫外光刻机，原计划2025年交付，提前到2024年底推出样机，核心部件国产化率达90%，摆脱日本零件依赖。南大光电和晶瑞电材验证光刻胶工艺，用18个月完成量产，原本需3到5年。2023年7月，中国商务部对镓和锗等金属出口管制，欧美日企业评估供应链，中国企业扩大市场份额，形成反制。日本企业如尼康三成营收来自中国，管制后订单减少，股价波动。东京威力科创收入下滑，调整生产线。西村康稔2023年12月辞职后接受调查，丑闻涉及自民党派系未报告资金。中国半导体自主化浪潮兴起，从2023年管制开始，到2025年，本土光刻胶本土化率从20%升到50%，适应高数值孔径需求。2024年，日本进一步收紧管制，新增中国实体到清单，但中国企业突破显著。上海微电子28纳米光刻机良率达90%，成本仅ASML同类1/3，2025年计划交付10台以上。EUV光刻机进展中，采用LDP技术，2025年第三季度进入试产，激光诱导放电等离子体稳定性波动0.8%，优于ASML，设备体积缩小到三分之一，已获专利。2025年，中国光刻机供应链国产化率升到12%，较2024年增长5个百分点，尤其i线前道光刻机和中低端DUV领域。工信部目录中，国产ArF光刻机分辨率65nm，套刻精度8nm，支持28nm芯片部分工艺。整体投资超1000亿美元，保持全球300mm设备支出第一。美日管制下，中国研发支出快速抬升，2024年前三季度A股半导体设备厂商研发费用同比增长50%。日本2025年两次升级对华管制，力度被外媒称远超美国，但自家企业受损，中国反制让日媒承认根基动摇。全球格局中，中国半导体出海东南亚和美洲，关税争端下仍推进。
哈工大面对美国技术封锁逆势崛起,研发出国产光刻机最新突破,美国的芯片制裁即将沦为笑话…
ASML指责中国研发光刻机，哈工大再次完成光刻机的突破，小小美国还能如何制裁… 哈工大在2025年1月正式对外公布，其研发团队成功攻克了放电等离子体极紫外光源技术，所产生的光源波长精准控制在13.5纳米，而这个波长的光源正是...
个股异动|光刻机概念盘中拉升 国风新材直线涨停
上证报中国证券网讯（记者王墨璞嘉）11月19日，光刻机、光刻胶概念盘中异动拉升，国风新材直线涨停，股价报7.17元/股。国风新材聚焦高分子功能膜材料、光电新材料、聚酰亚胺材料、绿色环保木塑新材料、新能源汽车轻量化材料五...
三台光刻机困死西方!中国芯片绝地反杀震撼全球
2023年1月，荷兰港口寒风凛冽，三台价值20亿的DUV光刻机被贴上封条。美国官员得意宣称：“中国芯片的丧钟已经敲响。两年后，丧钟为谁而鸣？2025年秋，荷兰政府突然动用《物资供应法》，强行冻结中国安世半导体所有资产。这一记...
中美芯片战打到光刻机，中国稀土卡脖子，阿斯麦左右为难。2023年起，美国禁止用
中美芯片战打到光刻机，中国稀土卡脖子，阿斯麦左右为难。2023年起，美国禁止用美国技术的光刻机卖到中国。中国反过来说用中国稀土的光刻机也别想出口。荷兰阿斯麦公司两边都得罪不起，只能偷偷给中国发了27台机器。美国发现后加大管制，连软件系统都锁死了，中国买了阿斯麦的机器也没法用顶尖技术。阿斯麦为了躲美国制裁，在中国建了维修中心囤配件。可中国用稀土反制，规定只要含0.1%中国稀土的设备都得审批。后来全球光刻机出货量跌了两成，阿斯麦股价跌了三成，美国供应商也遭殃。中国自己研发28纳米光刻机，成本比外国便宜三分之二。现在阿斯麦在中国卖不动机器，美国企业芯片供应跟不上，中国却开始用上国产设备。这场争斗最后谁都没占便宜，倒是普通消费者跟着遭殃。
