最近，哈工大的曙光让ASML静默，中芯国际等一台国产EUV亮相

前言

最近国产光刻机领域传出大消息：哈尔滨工业大学声称实现了13.5纳米极紫外光源的技术突破。

虽然美国、ASML和台积电保持沉默，但新加坡投资专家王国辉在媒体上对中芯国际表示看好，认为其具备与全球芯片巨头竞争的潜力。

正文

王国辉，这位拥有40多年投资经验的专家，指出中芯国际的关键问题在于缺少本土EUV光刻机。

随着哈工大的技术突破，国产EUV光刻机似乎指日可待。

这次技术创新采用了DPP技术，展示了中国在这个尖端领域的技术实力。

有趣的是，美国Cymer公司使用的是传统的LPP技术，而荷兰则利用透镜技术获得极紫光，这使得哈工大此次的方法格外引人注目。

尽管如此，要打造顶级EUV光刻机，除了光源外，还需要过硬的物镜系统、工作台等技术，这些依然是个不小的挑战。

ASML似乎低估了中国的发展速度，即便哈工大的技术已展示出相当的潜力。

从短时间来看，ASML和台积电在各自的体系内仍处于领先地位，可中芯国际正在快速追赶。

王国辉的乐观态度正是基于此。

如今中芯国际寄希望于一台国产EUV，以打破技术封锁，并在未来几年内尝试与台积电进行市场角逐。

结语

哈工大的成功无疑为中芯国际提供了希望，未来的国产EUV发展值得期待。