中国狂买“过时”光刻机，美国专家惊出冷汗：他们在下一盘大棋！ ​美国本以为掐

中国狂买 “过时” 光刻机，美国专家惊出冷汗：他们在下一盘大棋！ ​美国本以为掐住光刻机的脖子，就能困住中国芯片产业，可没想到，中国狂买他们眼中的“过时货”深紫外光刻机就是DUV技术，压根不是为了急着造芯片，这步暗棋，让美专家克里斯・米勒直呼 “后背发凉”。 2022年，当全球都在盯着最先进的极紫外光刻机（EUV）时，中国企业却悄悄加大了对深紫外光刻机（DUV）的采购力度。仅一年时间，国内企业从荷兰ASML等厂商购入的DUV光刻机数量就突破了百台，采购金额远超往年。美国媒体一开始还嘲讽“中国只能捡别人淘汰的技术”，甚至有政客公开宣称“DUV造不出高端芯片，中国芯片产业只能停留在中低端”。可他们不知道，中国企业的算盘，远比想象中打得更精。 很多人不知道，DUV虽然比EUV落后一代，但并非“无用之物”。在芯片制造领域，除了7纳米以下的高端芯片需要EUV，大部分汽车芯片、工业控制芯片、物联网芯片等，用DUV就能生产。而这些中低端芯片，恰恰是全球市场需求量最大的——2023年全球芯片市场规模中，中低端芯片占比超过60%，汽车芯片更是供不应求。美国以为卡住EUV就能让中国“无芯可用”，却忘了中国早已看清市场需求：先稳住中低端芯片供应，再逐步突破高端技术，这才是稳扎稳打的路子。 更让美国专家没想到的是，中国买DUV，不只是为了生产芯片，更是为了“反向学习”。上海微电子装备有限公司的工程师王磊，就是参与DUV技术研究的一员。他所在的团队，拿到进口DUV光刻机后，没有立刻投入量产，而是先对设备进行拆解、测绘，一点点研究核心部件的原理。“别人的设备就像一本‘教科书’，我们要做的就是读懂这本书，再写出自己的‘教材’。”王磊说。 一开始，团队遇到了不少难题。DUV的核心部件“光刻镜头”精度极高，表面误差不能超过几纳米，国内没有企业能生产。团队只能反复研究进口镜头的结构，联合中科院光学研究所，花了整整一年时间，终于研发出国产光刻镜头。还有设备的控制系统，国外对中国进行技术封锁，团队只能从零开始，自主编写控制程序，经过上万次调试，才让国产控制系统达到进口设备的水平。 2023年底，上海微电子传来好消息：国内首台自主研发的28纳米DUV光刻机成功下线，经过测试，其性能与进口设备相差无几，而成本却降低了30%。这台光刻机一经推出，就被国内多家芯片企业订购——汽车芯片厂商急着用它扩大产能，工业芯片厂商则盼着它解决“卡脖子”问题。消息传到美国，克里斯・米勒在《华尔街日报》上发文：“中国没有被困在EUV的死胡同里，反而通过DUV找到了另一条路，他们的耐心和战略眼光，让我们低估了。” 其实，中国狂买DUV的背后，还有一盘更大的棋——完善芯片产业链。以前，中国芯片产业“重设计、轻制造”，很多企业能设计出芯片，却找不到国内工厂生产，只能依赖国外代工。而大量采购DUV后，国内芯片制造企业有了设备，开始扩大产能，同时也带动了上下游产业的发展：光刻胶、掩模版等配套材料企业加速研发，设备维修、技术服务等行业也逐渐成熟。 就拿光刻胶来说，以前国内90%以上的光刻胶依赖进口，价格昂贵，还经常断货。随着DUV光刻机的普及，国内企业加大了光刻胶研发投入，深圳某企业研发的28纳米光刻胶，不仅通过了测试，还拿到了国内芯片厂商的订单，打破了国外垄断。现在，国内芯片产业链上的企业，从设备到材料，从设计到制造，都在一步步完善，形成了“自主可控”的雏形。 美国也意识到了问题，试图加大对DUV的出口限制，可已经晚了。一方面，中国已经采购了足够多的DUV光刻机，能满足中低端芯片的生产需求；另一方面，国内自主研发的DUV已经下线，不再完全依赖进口。更重要的是，中国通过研究DUV，积累了大量光刻技术经验，为研发更先进的光刻机打下了基础。有专家预测，未来5年，中国有望突破14纳米DUV技术，甚至向EUV技术发起冲击。 现在，全球芯片市场的格局正在悄然改变。以前，美国和荷兰、日本等国垄断了高端芯片技术，中国只能被动接受；现在，中国在中低端芯片领域站稳了脚跟，还在逐步向高端突破。汽车芯片、工业芯片的国产替代率不断提高，甚至开始出口到东南亚、欧洲等地区。越来越多的国外企业，开始主动与中国芯片企业合作，因为他们知道，中国芯片产业已经不是“任人拿捏”的弱者，而是全球芯片市场不可或缺的重要力量。 克里斯・米勒在文章里还说：“中国芯片产业的发展，不是靠‘弯道超车’，而是靠‘稳扎稳打’。他们不急于求成，而是一步一个脚印，从基础做起，这种战略定力，才是最让人害怕的。”其实，中国从来没有想过要“卡别人的脖子”，只是想掌握自己的命运，不再被别人“卡脖子”。 对此您怎么看呢？