周末大热板块之光刻胶
国产光刻机技术突破（28nm浸没式光刻机量产），我国科学家首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。
光刻技术是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。国产光刻胶的突破，为我们打破西方技术封锁又迈进了一步。核心标的：
一、光刻胶：
南大光电（ArF光刻胶量产）、容大感光（PCB光刻胶龙头）
产业链协同：晶瑞电材（湿电子化学品）、上海新阳（KrF光刻胶）
二、光刻机：
设备端：上海微电子（未上市）、北方华创（清洗设备）
材料端：凯美特气（电子特气）、菲利华（石英材料）
投资平台：张江高科（持股上海微电子10.77%）
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