【琅河财经】日本拥有全世界最好最全的中国情报。日经新闻写了一篇长文，名字叫做中国能造出自己的ASML吗？ 我觉得这个文章写的非常扎实，也反映出日本产业信息收集能力。 在文章开头，就给出背景：根据日经亚洲对多位业内高管的采访，中芯国际及其同行，包括本土领先的存储器制造商长鑫存储和长江存储，已在多个方面取得了令人瞩目的进展，用国产替代品取代了用于蚀刻、测量、沉积、化学抛光等的外国工具。 然后抛出问题：但仍然存在一个艰巨的障碍：光刻技术。 光刻机制造能力非常稀缺，全球只有三家公司——荷兰的ASML以及日本的佳能和尼康——能够生产这种设备。根据行业组织SEMI的数据，去年光刻机占全球芯片制造设备支出的近25%。 因此价格高昂，高数值孔径EUV光刻机单价3.5亿美元，是迄今为止最昂贵的芯片制造工具。 而且开发时间极其漫长，EUV 概念从概念到商业化花了 20 多年的时间。开发下一代高数值孔径 EUV 技术同样复杂。例如，仅重新设计投影光学系统和照明系统就耗费了八年多的时间。 生产也需要一年时间，供应商也需要大投入。ASML 供应商卡尔蔡司表示，高数值孔径 EUV 光刻机的光学系统包含约 65,000 个零件，生产周期为一年。蔡司开发该系统耗时超过 1000 万小时，并与 ASML 合作了 25 年。 这就导致在ASML周边有一堆顶级合作伙伴。构建这种合作关系已经跨越了市场交易，需要深度绑定。ASML 于 2013 年收购了 Cymer，并于 2016 年收购了蔡司旗下生产先进光学产品的子公司 Carl Zeiss SMT 近 25% 的股份。 ASML公司自己也承认，其光刻帝国不仅依赖于自身的技术诀窍，还依赖于数千家供应商的支持。 ASML 首席执行官 Christophe Fouquet表示：“这涉及大量专业技能，不同的人负责设备的不同部分。例如，负责光源的人大多数时候根本不了解光学系统是如何工作的，因为这些是截然不同的专业领域。”这“基本上汇集了大量的知识……任何人想要在短短几年内复制出 EUV 都是极其困难的。” 德国顶级研究中心弗劳恩霍夫IISB计算光刻和光学部门负责人安德烈亚斯·埃德曼（Andreas Erdmann）表示，这种复杂性对潜在挑战者来说是一个障碍。“如果你要制造光刻机，你需要的不仅仅是好的光学器件，”他告诉《日经亚洲》，“你需要力学、电子学、化学、数学和计算。所有一切都必须协同工作并完美整合。这就是为什么世界上很少有公司能做到这一点。” 日经也指出，中国正在尝试构建自己的生态系统，并画出了这个系统的大致组成。中国国内的国内关键EUV组件供应商，包括光刻胶、光刻工具、反射镜、透镜、激光器和光源，都在发力。 我觉得日经有两个观点总结的特别好，第一个，设备需要在应用中成长，国内的芯片制造企业的应用为技术进步提供了重要动力。第二个，集体意志很重要，大家都明白，别无他路，只有自己做出来才是王道。 日经甚至引用了曾在唐纳德·特朗普第一任期内担任美国高级政府官员、半导体专家的梅根·哈里斯的观点：美国政策制定者对中国本土的芯片工具制造能力有些天真或无知。她表示，中国已经拥有应用材料公司、东京电子和泛林集团的本土竞争对手，并且可能会加倍投入开发自己的半导体工具。 从市场上来看，中国的芯片设备制造商表现还是不错的，自2019年以来，在中美紧张局势升级的背景下，中国五大芯片工具制造商蓬勃发展。《日经亚洲》的分析发现，自2019年以来，它们的总收入增长了473%，其中四家预计2024年的利润将创历史新高。